光刻物镜是微电子生产投影式光刻机的核心部件，随着微电子生产工艺不断向微细化、集成化发展，对光刻镜头的要求越来越高。
要求具有衍射极限的成像质量、高分辨力、大视场、小畸变，其性能直接决定了光刻机的图形传递能力。
制造光刻镜头除了设计出一个成像完善的光学系统和精选优质的光学玻璃外，关键在于光学加工、结构设计装配以及相关的测试技术等。
基本参数:
1．物方尺寸: Φ17.6
2．放大倍率: 0.2x
3．像方尺寸: Φ3.52
4．物,像远心光路
5．物方工作距离: > 30 mm
6．像方工作距离: > 10mm
7．设计波长范围: 395~ 415 nm
8．透过率: > 75% @ 405nm
其他参数：
1. 最大外径: < 54 mm
2. 透镜长度: < 173 mm
3. 两端螺纹为: M44X0.75 长度10mm；M58X0.75 长度8mm
4. 镀增透膜波长范围: 350nm ~ 450nm
5. 物像共轭距: < 420 mm
