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无掩膜光刻机
无掩膜光刻机是一种用于信息与系统科学相关工程与技术领域的工艺试验仪器。
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光学系统上的创新与突破-平行化曝光制程技术制版系统VPG +大尺寸曝光系统适合用于*封装，半导体，显示器，彩色滤光片，LED和触摸屏等相关掩膜版制作的应用。
VPG +系统支持有工业等级数据化格式，并提供Mura优化功能，呈现*的CD均匀性和分辨率。
VPG + 1400是我们*的系统，特别针对显示器领域和FPD的应用，例如TFT数组和彩色滤光片以及ITO。
VPG + 1400具有高精度的设备架构，分辨率低至1.2 nm的差分干涉仪及*的Mura校正功能。
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